桌面热蒸发涂布机 - DTT
我们的德勤台式热蒸发涂层机为材料研究科学家提供了一个高度灵活的工具，用于生产各种格式的薄膜样品与三源热蒸发使用各种涂层材料的支架(船，篮子，线圈)。
与双泵系统组成的外部真空泵(包括)和直接附加TMP(涡轮分子泵)，该系统德勤热蒸发器可以在微托范围内实现真空，允许非常细的晶粒薄膜应用于多种基材。均匀的薄膜沉积具有优越的细晶粒尺寸形成在一个快速的周期时间，适合先进的材料研究和高倍扫描电子显微镜。
的德勤系统配备了一个大的腔室(直径300毫米)与各种腔室高度选项(250至500毫米)。三(3)蒸发源持有者允许或连续涂层或同时涂层合金材料。为了增加薄膜对基片的附着力和改善薄膜结构，可选择加热器允许基片加热高达500°C。基片冷却也是可选的。虽然蒸发涂层通常非常均匀，但旋转基材或样品保持器是一种选择。一个质量流量控制(MFC)气体输入允许精确的气体流量控制和室压。
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金属和介电薄膜
纳米与微电子学
光学组件涂层
薄膜传感器的制备
医疗组件
磁性设备
- 在一个紧凑的系统中，三种物质源的热蒸发过程
- 无限的沉积时间，不打破真空
- 连续涂层或同时共蒸发合金化(可选)
- 蒸发源保持-船，篮子，线圈
- 500°C基板加热器(可选)
- 进入工艺室的水冷电馈通
- 两级直驱旋叶粗磨泵(可选无油泵)
- 涡轮分子泵- 90l /sec Leybold(可选250和350 L/sec TMP)
- 精密质量流量计(MFC)用于真空的精细控制
- 高精度石英晶料厚度显示器（水冷）
- 基板冷却（可选）
- 直观的触摸屏控制涂装过程
- 用户友好的软件，可以通过网络更新
- 控制涂层速度，实现更精细的晶粒结构
- 手动或自动定时和厚度沉积
- 电子控制快门
- 电子控制气体净化和排气
- 易于更换标本阶段(可选旋转阶段)
- 2年工厂保修
触摸屏控制
所有的涂布机都配备了7英寸触摸屏和全自动控制，即使没有经验的用户也可以轻松操作。真空、电流和沉积信息可以在触摸屏上以数字数据或曲线的形式观察到。历史页面还保存了最近300个涂层的信息。
热蒸发源(船/篮/盘管)
DTT台式热蒸发涂布机可以配备不同的源架FSUCH作为船只，篮子，来自大多数传统供应商的线圈，具体取决于用户要求。蒸发源保持器的设计导致源材料彼此的污染。源极保持器的长度可以在5o至100mm的范围内。可以轻松调整定制样品架和源架。
样品或衬底支架
DTT台式热蒸发涂布机有一个标准的基材支架，带有用于矩形和圆形涂层的掩膜。带有“掩模”的定制基板支架制造简单，也可以提供可选的附加成本。样品支架通常用于扫描电子显微镜，如来自MicroToNano可方便地用于基材和样品的重复固定。
| 德勤 | |
|---|---|
| 真空(90 L/sec TMP) | 0.5 x E-6托 |
| 真空(350升/秒TMP) | 0.5 x E-7托 |
| 前泵的选择 | RVP(标准)，隔膜，滚动 |
| 源持有者 | 船,篮子,线圈 |
| 数量的来源 | 3. |
| 支架的长度 | 50至100毫米 |
| 室大小(标准) | 300mm d x 250mm h |
| 室高度(可选) | 最高可达500mm H |
| 电力供应 | 25 v直流,0 - 100 a |
| 电源选项 | 多个(co-evaporation) 0 - 150 a |
| 过程气体 | 基于“增大化现实”技术,O, N |
| 水的冷却 | 电源馈入(衬底-可选) |
| 旋转舞台 | 可选 |
| 衬底加热 | 高达500°C |
| 厚度监控 | 标准 |
| 输入功率 | 220V 1相20A |
| 涂布机尺寸(毫米) | 650 (W) x500 (D) x560 (H) |
| 装运重量 | 60公斤 |