我们的普具有可选的热蒸发涂布机的脉冲激光沉积系统为材料研究科学家提供了一种高度灵活的工具，用于以各种格式生产薄膜标本。它可以将复杂的材料和结晶结构存放在具有非常少的设置的基材上。脉冲激光沉积技术导致有效，不热烧蚀，并保留目标材料的化学计量。通过应用这种方法，可以将诸如氮化物，氧化物，超格子，聚合物和复合材料的材料沉积。

采用双泵系统，由外部真空泵（包括）和直接连接的TMP（涡轮分子泵）组成，普脉冲激光沉积系统可以在微型托隙中实现真空，允许将非常细的晶粒薄膜应用于多个基板。具有优异的细粒尺寸的均匀薄膜形成在适用于先进材料研究和高倍率扫描电子显微镜的快速循环时间。

这普系统配备了大型室（300毫米直径）和三（3）个源支架，具有电动目标选择。不包括激光源并坐在腔室外部，并利用腔室窗口进行激光访问源目标。为了将薄膜粘附增加对基板并改善膜结构，可选的加热器允许基板加热至500℃。质量流量控制（MFC）气体输入允许精确的气体流量控制和腔室压力。